掩膜版行业深度报告：光刻蓝本亟待突破 国产替代大有可为

掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（菲林、凸版、干版），按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版、电路板掩膜版。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。国内掩膜版厂商的上游材料以及设备严重依赖日韩厂商。生产制造方面，掩膜版的制造工艺复杂，主要的生产工艺包括：光刻、显影、蚀刻、脱膜以及清洗。 全球竞争格局：海外寡头垄断，国产厂商持续发力。1）细分市场规模：掩膜版的主要应用领域为半导体与平板显示。半导体领域，2022 年全球光掩模版市场规模大约为58.11 亿美元；平板显示领域，根据Omdia 数据，全球平板显示掩膜版2022 年市场规模达1026 亿日元。2）竞争格局：据SEMI 的数据统计，2019 年全球芯片掩膜版市场中，65%的市场份额由晶圆厂自行配套的掩膜版工厂占据，剩余35%的份额则被独立第三方掩膜工厂瓜分。3）国产化进程：半导体领域，国产厂商暂时集中在芯片封测用掩膜版以及100nm 节点以上的晶圆制造用掩膜版，技术水平与国际领先的企业有较大差距；平板显示领域，G11 代线的掩膜版产品已有国产厂商突破垄断，精度方面离国际最高水平还稍有差距。 海外龙头解析：掩膜版龙头发展路径。掩膜版龙头企业的崛起都有规律可循，海外龙头背后的发展共性都是企业成长的必经之路。通过复盘三大海外龙头的成长轨迹，我们总结了龙头公司掩膜版业务的发展思路供国内公司参考： 1）与晶圆厂共同研发新产品；2）建立全球化的生产基地，重视中国市场机遇；3）持续并购整合建立全球销售网络，加快研发速度。 国产替代机遇：随着我国半导体产业占全球比重的逐步提升，我国半导体掩膜版市场规模也逐步扩大。目前国内厂商已量产250nm 工艺节点的6 英寸和8 英寸半导体芯片用掩膜版，正在推进180nm 半导体芯片用掩膜版的客户测试认证，同步开展130nm-65nm 半导体芯片用掩膜版的工艺研发和28nm 半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划，逐步缩小与海外龙头企业的技术差距，加速国产替代进度。我们认为国内掩膜版行业的景气度有望持续旺盛，国产厂商有望迎来业绩的高速增长。 投资建议：我们看好国内掩膜版需求的持续提升和国产替代的迫切需要。 建议关注：1）清溢光电：国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一。 2）路维光电：国内唯一一家具有G.2.5-G11 全世代掩模版生产能力的国内掩模版厂商，公司在G11 超高世代掩膜版、高世代高精度半色调掩膜版和光阻涂布等产品和技术方面，打破了国外厂商的长期垄断。 风险提示：行业竞争加剧；下游行业周期性波动；产品验证不及预期。 【免责声明】本文仅代表第三方观点，不代表和讯网立场。投资者据此操作，风险请自担。

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