英特尔完成首台商用高数值孔径EUV光刻机组装

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4月18日,美国芯片公司英特尔宣布,已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻机。据介绍,这套重达165吨的设备是阿斯麦(ASML)与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设...

西陇科学:公司未生产、销售光刻胶

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证券时报e公司讯,西陇科学(002584)(002584)11月16日晚间发布股票异动公告,公司未生产、销售光刻胶,公司生产和销售的光刻胶配套试剂为清洗剂、显影液、剥离液等。目前上述产品用于光刻胶配套的销...

掩膜版行业深度报告:光刻蓝本亟待突破 国产替代大有可为

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掩膜版:电子制造之底片,晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版,按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(菲林、凸版、干版),按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜...

光刻胶龙头彤程新材,公布大消息

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  炒股就看金麒麟分析师研报,权威,专业,及时,全面,助您挖掘潜力主题机会!   光刻胶龙头,公布大消息   来源:上海证券报    “好消息啊,我们一直在等待他家的新产能投产,现在供应的产品不够用。”1...

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